引用商標権消滅

1 本願商標

本願商標は、「ORION」の欧文字を横書きしてなり、第7類「シリコンウェハ・集積回路・半導体・半導体基板・マイクロエレクトロニックサーフェス及び装置のクリーニング・エッチング・ストリッピング・処理・製造用のマイクロ電子機器及び半導体製造機械器具,その他の半導体製造装置,化学機械器具,修繕用機械器具」を指定商品として、2007年1月26日にアメリカ合衆国においてした商標登録出願に基づきパリ条約第4条による優先権を主張して、平成19年7月25日に登録出願されたものである。

その後、指定商品については、原審における同年12月27日付け手続補正書により、第7類「半導体洗浄装置,半導体エッチング装置,フォトレジスト剥離装置」と補正されたものである。

2 引用商標

原査定において、本願商標が商標法第4条第1項第11号に該当するとして、拒絶の理由に引用した登録第4332344号商標(以下「引用商標」という。)は、「ORION」の文字を標準文字で表してなり、平成10年1月7日登録出願、第7類「イオン注入機並びにその部品及び附属品」を指定商品として、同11年11月5日に設定登録され、その後、かかる商標権は、同21年11月5日に存続期間が満了し、同22年7月28日に商標権の登録の抹消がなされたものである

3 当審の判断

引用商標は、前記2のとおり、商標権が消滅したものであるから、本願商標が商標法第4条第1項第11号に該当するとして本願を拒絶した原査定の拒絶の理由は解消した。

その他、政令で定める期間内に本願について拒絶の理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。