欧文字3文字の類否判断と取引実情

1 本願商標

本願商標は、「FHM」の欧文字を標準文字で表してなり、第7類に属する願書に記載のとおりの商品を指定商品として、平成26年7月7日に登録出願されたものであり、その後、本願の指定商品については、当審における同27年4月27日付け手続補正書により、第7類「真空蒸着に用いるマスク,薄膜生成に用いるマスク,有機ELディスプレイ製造用マスク,タッチパネル製造用マスク,半導体製造用マスク」に補正されたものである。

2 引用商標

原査定において、本願商標が商標法第4条第1項第11号に該当するとして、本願の拒絶の理由に引用した登録第1320710号(以下「引用商標」という。)は、別掲1のとおりの構成からなり、昭和48年11月13日に登録出願、第9類に属する商標登録原簿に記載のとおりの商品を指定商品として、同53年2月1日に設定登録され、その後、3回にわたる商標権の存続期間の更新登録がなされ、平成20年9月3日に指定商品を第7類「半導体製造装置」を含む第7類に属する商標登録原簿に記載のとおりの商品とする書換登録がされ、現に有効に存続しているものである。

3 当審の判断

本願商標は、前記1のとおり、「FHM」の欧文字を標準文字で表してなり、また、引用商標は、前記2のとおり、「FHN」の欧文字を横書きしてなるところ、いずれの文字も、特定の意味を有する語として一般に知られているとはいい難いものであるから、特定の意味を想起させることのない造語として認識されるものである。

そうすると、本願商標は、その構成文字に相応して「エフエイチエム」の称呼を生じるものであり、特定の観念を生じないものである。また、引用商標は、その構成文字に相応して「エフエイチエヌ」の称呼を生じるものであり、特定の観念を生じないものである。

そこで、本願商標と引用商標との類否について検討すると、本願商標と引用商標とは、上記のとおり、構成文字の3文字目における「M」の文字と「N」の文字との差異を有するものであり、いずれも3文字という短い文字構成からなるものであるから、該差異が視覚に与える影響は決して小さいものではなく、外観上、見誤るおそれはないというべきである。また、本願商標から生じる「エフエイチエム」と引用商標から生じる「エフエイチエヌ」の称呼とは、それぞれの語尾における「ム」の音と「ヌ」の音における差異により、全体の語調、語感が異なり、聴別し得るものであり、本願商標と引用商標とは、いずれも特定の観念を生じることのないものであるから、観念において比較することができない。

そして、本願商標の指定商品及び引用商標の指定商品中「半導体製造装置」は、各種製品に搭載される集積回路を製造するために用いられる装置であるところ、それらは、多様な技術を組み合わせてなる装置であり、廉価な商品ではないこと及びその取引において、各社・各製品所定のパターン等に合わせた装置及び専用品の開発がされ、仕様確認がなされて納入される商品であることを踏まえれば、その取引者、需要者は相当の注意を払い、慎重な取引が行われる商品であるといえる。

してみれば、本願商標と引用商標とは、観念において比較することができないものの、外観及び称呼において相違するものであって、それらを総合し、かつ、上記取引の実情を踏まえつつ全体的に考察すると、両商標は、上記の同一又は類似の商品に用いられた場合には、商品の出所につき混同誤認を生ずるおそれのない非類似の商標であるというのが相当である。

したがって、本願商標が商標法第4条第1項第11号に該当するとして本願を拒絶した原査定は、取消しを免れない。

その他、本願について拒絶の理由を発見しない。

よって、結論のとおり審決する。